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hdirobert · 发表于 2011-7-1 12:04:39

DES第一段是顯影藥水,常用的物料是碳酸鈉或碳酸钾,以碳酸鈉成本較低,且碳酸钾末負荷量較低,定時添加和更換保持一定的新鮮度,比較能確保顯影參數的穩定;內層製程因為沒有鑽孔,要保持足夠的壓力,顯影噴嘴採用扇形噴嘴較佳;顯影點一般物料商會設定50-60%,我比較建議往前提到40-50%,能有效避免膜膠後帶水洗槽造成嚴重污染問題;至於消泡劑的使用,目前要完全部不使用仍然是有些許困難,這就各廠心知肚明就好了.

hdirobert · 发表于 2011-7-2 16:40:51

顯影和蝕刻段中間的滾輪是重要要點,因為DES長久有設計中間的檢視段,主要是因為遠久以前,線路在8/8-6/6mil的時代,經過顯影可以由人工檢查,做乾膜斷路人工補膜的動作,長久沿襲,這控部段也就一直被保留,雖然現在HDI細線路已經無法做這樣的動作,但設備商或工程人員,沒有人敢大膽更動,也就留作心安檢視的段落了,這一段非常重要的要點,就是要要求設備商製作所有葉片滾輪片增加清水浸浴缸設計,才能使乾膜板進入蝕刻前,全段滾輪保持潤濕狀態,污染膜或異物才不會沾黏滾輪,乾燥劣化後變成刮傷乾膜的重大來源,舊設備就算找廠商進行設備修改良率的回收值得做此設備改造工程.

hdirobert · 发表于 2011-7-5 17:07:03

蝕刻段噴盤設計部分,純內層1/2oz、1oz基材銅面,和經過電鍍的Tenting銅面,設計是完全不同的,基材銅面基本噴管設計採用橫向設計(單一噴管和板子行進方向呈90度),對於調整蝕刻均勻性較為穩定;Tenting製程則因為電鍍均勻性問題,框邊電鍍厚度差異,需採用直向設計噴管,才能有效應對蝕刻均勻性的調整,很多廠都將DES蝕刻線共用製程,所以才會產生所謂內層過蝕不良難以控制的問題,這些工程人員要非常注意設備購買時,使用的產品主力,要廠商應對相關的設計.

hdirobert · 发表于 2011-7-7 11:42:59

蝕刻製程,首針對產品的計畫,選擇蝕刻藥水系統,氯酸鈉/硫酸雙氧水系列/氯化鐵系列,不同系列,購置DES需確認中央控制心臟AQUA系列的確定,不同藥水,AQUA系列不同,例如氯酸鈉系列採用AQUA711,硫酸雙氧水系列採用AQUA911,用錯了系統,設備故障,蝕刻品質不穩,這常常所見多有,尤其是工程師于舊設備,為了成本或品質考量,或生產管理簡化問題,更換了新藥水系統,卻常忽略此點...

hdirobert · 发表于 2011-7-9 11:50:55

蝕刻設備配置的補償蝕刻,要設定蝕刻後補償,還是蝕刻前補償,見仁見智,我建議是設定比較少見的蝕刻前補償,因為如果因為蝕刻總銅厚度的差異不需開補償,設定蝕刻後補償,光是滴落的蝕刻藥水就令人夠頭疼了;另外蝕刻補償一定要分槽分管分閥加上回抽藥水設計,這樣對調整有最大的益處;還有一個小細節就是蝕刻前、蝕刻後交接處的滾輪葉片軸心材質一定要要求廠商有延伸性,至少向前5-10組向後5-10組,一樣要設定耐酸鈦材質,因為進出蝕刻槽交接的滾輪才是容易忽略而損壞造成卡板的.

hdirobert · 发表于 2011-7-11 12:26:01

蝕刻所造成的水滯效應(或稱水池效應),在既有的舊設備,不是增加壓力就可以改善的,噴壓壓力愈增加,上噴和下噴的水滯效應就會愈差愈大,舊設備改善水滯效應,是要降低噴壓,平衡上下有效噴壓,調慢蝕刻速度才可以改善;至於新設備有的用噴嘴角度、噴嘴高度、噴嘴形式、噴盤角度..等等做各種的設計修改,期於改善水滯效應,但最直接有效的設計,就是噴嘴前後做強酸藥水的檔水滾輪,把蝕刻藥水擋除,直接提昇有效蝕刻力,最為簡單;至於真空蝕刻機,就和這類設計僅提升預估20%效果,但設備成本偏高,相對減低了投資性價比,還需要多加考慮.

zxw19801999 · 发表于 2011-7-11 23:05:57

非常好,值得学习

zxw19801999 · 发表于 2011-7-11 23:16:12

控制AOI 后内层的O/S,无论是清洁还是水洗,无尘室环境,所有这一切,集中在生产现场的控制,否则良率难以提高

hdirobert · 发表于 2011-7-13 10:46:10

蝕刻到去膜中間的控部段也需要增加基本的可清洗機構,因為由酸入鹼總是使去膜入口端結垢到新機看似舊機,而且這種垢持續增加總是使去膜段所有的噴嘴大量堵塞,造成去膜效率低落,汙染後帶,相對造成板面藥液水紋氧化髒污,相對大幅度降低AOI的檢查效率.如果有機會設計設備甚至想設計一小槽單獨循環式的弱鹼洗(例如碳酸鈉弱鹼不溶解乾膜),讓鹽類在這段就水溶性去除不讓酸進入去膜設備,因為酸進入去膜設備加上乾膜溶解結合出來的是水不溶性高分子鹽類,是非常令人討厭的汙染.

显示全部楼层 · 发表于 2011-7-13 14:35:13

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g_zhixiao 该用户已被删除	发表于 2011-7-13 14:35:13 \| 显示全部楼层提示: 作者被禁止或删除内容自动屏蔽
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